Bersaglio in titanio

I target in titanio sono le principali materie prime utilizzate nel processo di sputtering mediante deposizione fisica in fase di vapore (PVD). Le particelle ad alta energia bombardano le loro superfici, spruzzando atomi o ioni di titanio, formando una pellicola di titanio o composto di titanio di elevata purezza e ad alte prestazioni sul substrato.

▸Caratteristiche principali e specifiche tecniche:
1. Purezza ultraelevata: Disponibili in vari livelli di purezza, dal 99,99% (4N) al 99,9999% (6N), questi target soddisfano i severi requisiti di impurità di varie applicazioni e garantiscono eccellente conduttività, resistenza alla corrosione e biocompatibilità.
2. Dimensioni e peso personalizzabili: È supportata la produzione completamente personalizzata. È possibile progettare e produrre dimensioni e peso massimi per soddisfare le camere specifiche dell'attrezzatura del cliente, i requisiti di processo e la potenza di sputtering, fornendo la massima flessibilità di processo.
3. Imballaggio professionale: Imballati in modo sicuro in casse di legno o pallet, questi target di alto valore e ad alta precisione sono protetti da danni, contaminazione e deformazione durante il trasporto e lo stoccaggio, rispettando gli standard di spedizione industriali.

▸Aree di applicazione principali:
1. Display LCD (display a cristalli liquidi): Utilizzato per depositare elettrodi (come gate, source/drain) o strati barriera in array di transistor a film sottile (TFT), che è fondamentale per visualizzare prestazioni e resa.
2. Dispositivi medici e impianti: Utilizzato per depositare film sottili di titanio o nitruro di titanio di elevata purezza sulle superfici di dispositivi medici come articolazioni artificiali, viti ossee, impianti dentali e stent cardiovascolari, migliorando significativamente la biocompatibilità dei prodotti, la resistenza all'usura, la resistenza alla corrosione e l'osteointegrazione.