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Quali gradi di purezza offrite?

CRNMC offre elevata purezza titanio materiali in tre gradi: 5N (99,999%), 6N (99,9999%) e 7N (99,99999%). Utilizzando un processo proprietario di raffinazione elettrolitica del sale fuso combinato con la tecnologia di fusione a fascio di elettroni sotto vuoto (EBM), otteniamo una produzione su larga scala di titanio ad altissima purezza. Essendo una delle sole quattro aziende al mondo in grado di produrre su scala industriale titanio ad altissima purezza, i nostri prodotti servono applicazioni critiche negli obiettivi di sputtering di semiconduttori, nel settore aerospaziale, nei dispositivi medici e nelle apparecchiature chimiche.

Parametri fondamentali per grado di purezza

Grado di purezza Valore di purezza Contenuto tipico di impurità Applicazioni primarie
5N 99,999% Impurezze totali < 10 ppm Obiettivi di sputtering di semiconduttori, materiali per evaporazione elettronica, superleghe
6N 99,9999% Impurezze totali < 1 ppm Produzione avanzata di chip, rivestimenti ottici di precisione, componenti nucleari
7N 99,99999% Impurezze totali < 0,1 ppm Ricerca di frontiera, dispositivi quantistici, sistemi ad ultra-alto vuoto

Processo di produzione principale

CRNMC impiega a processo proprietario di raffinazione elettrolitica del sale fuso di prossima generazione combinato con la fusione a fascio di elettroni sotto vuoto (EBM) per la produzione su larga scala di titanio ad altissima purezza. La fase di elettrolisi del sale fuso rimuove selettivamente le impurità dei metalli di transizione come Fe, Ni e Cr attraverso la riduzione elettrochimica. Lo stadio di fusione del fascio di elettroni funziona sotto vuoto spinto (< 10⁻³ Pa) per eliminare ulteriormente le impurità gassose tra cui O, N e H, producendo lingotti di titanio con livelli di impurità eccezionalmente bassi.

Applicazioni di qualità dei semiconduttori

Nella produzione di semiconduttori, la purezza degli obiettivi di sputtering del titanio influisce direttamente sulla resistività e sull'affidabilità degli strati di interconnessione dei chip metallici. I target in titanio di grado 5N soddisfano i requisiti per i nodi di processo da 28 nm e superiori; I target in titanio di grado 6N sono adatti per processi avanzati da 14 nm e inferiori, garantendo che la contaminazione delle particelle rimanga inferiore a 10 particelle per wafer (> 0,1 μm) durante la deposizione di film sottile.

Forme e personalizzazione del prodotto

Forma del prodotto Gamma di specifiche Opzioni personalizzabili
Obiettivi sputtering Diametro 50-300 mm Grado di purezza, dimensioni, metodo di incollaggio
Materiali di evaporazione Granuli 1-5 mm / Filo 0,5-3 mm Distribuzione granulometrica, forma, confezionamento
Lingotti ad alta purezza Diametro 100-200 mm Peso, orientamento dei grani, rapporti di prova
Billette in lega di titanio Secondo i disegni del cliente Composizione della lega, stato del trattamento termico

Sistema di controllo qualità

Dall'approvvigionamento delle materie prime alla consegna del prodotto finito, CRNMC mantiene un sistema completo di gestione della qualità. Ogni lotto è accompagnato da rapporti di analisi completa degli elementi ICP-MS che coprono 74 impurità metalliche ed elementi gassosi. Per i prodotti di grado semiconduttore, vengono forniti ulteriori report di analisi approfondita GDMS (spettrometria di massa a scarica di luminescenza), garantendo che la sensibilità di rilevamento delle impurità raggiunga il livello di ppb.

Casi applicativi del settore

  • Aerospaziale : Utilizzato nelle pale dei compressori dei motori degli aerei e nei componenti strutturali della fusoliera. L'elevata resistenza specifica riduce efficacemente il peso dell'aereo e migliora l'efficienza del carburante.
  • Dispositivi medici : Materiale per nuclei per articolazioni artificiali e impianti dentali. L’eccellente biocompatibilità garantisce la sicurezza dell’impianto a lungo termine.
  • Attrezzature chimiche : Componenti resistenti alla corrosione per reattori e sistemi di tubazioni, che mantengono la stabilità strutturale in ambienti fortemente acidi e alcalini.
  • Elettronica : Obiettivi di sputtering dello strato di interconnessione metallica per la produzione di chip, che contribuiscono a migliorare le prestazioni del circuito integrato.

Perché scegliere CRNMC

In qualità di fornitore principale nel settore globale del titanio ad altissima purezza, CRNMC investe continuamente nell'innovazione tecnologica e partecipa o guida numerosi progetti di ricerca nazionali. Personalizziamo dimensioni, pesi e specifiche di purezza in base alle esigenze del cliente, fornendo servizi a catena completa dalle materie prime ai componenti finiti. Il nostro team di professionisti offre supporto tecnico completo per la progettazione del prodotto, la produzione e la manutenzione post-vendita.

CHI SIAMO
CRNMC

Ningbo Chuangrun New Materials Co., Ltd. (CRNMC) è stata fondata nel giugno 2012 e ha cinque basi di produzione in tutta la Cina. Ci dedichiamo alla purificazione, fusione, fusione e lavorazione di titanio, nichel, rame, niobio, cobalto, ecc. di elevata purezza e forniamo una gamma completa di metalli di grado elettronico, come cristalli elettrolitici di elevata purezza, lingotti, lingotti forgiati, polveri e piastre.

Il nostro team è composto da esperti del settore e da uno staff imprenditoriale di 40 professionisti con background metallurgico, tutti dedicati all'industrializzazione di materiali di fascia alta.

Attualmente, l'azienda ha completato il layout della sua catena industriale di materiali ultra puri per garantire qualità, consegne puntuali e un migliore servizio clienti.

Tutto il personale è impegnato e motivato e non vede l'ora di soddisfare le esigenze dei clienti.

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